Hitech logo

Тренды

Zeiss: Китаю потребуется 15 лет, чтобы догнать Запад в EUV-литографии

TODO:
Екатерина ШемякинскаяСегодня, 11:20 AM

На создание собственного оборудования для литографии в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне (EUV) у Китая может уйти около 15 лет, считает Франк Рохмунд, руководитель полупроводникового подразделения немецкой Zeiss Group. При этом он отметил, что темпы китайских разработок трудно оценить количественно. В Zeiss раскритиковали американские санкции, подчеркнув, что жесткие экспортные ограничения не столько изолируют Пекин, сколько стимулируют его форсировать внутренние разработки и импортозамещение в микроэлектронике.

00
Самые интересные технологические и научные новости выходят в нашем телеграм-канале Хайтек+. Подпишитесь, чтобы быть в курсе.

EUV-литография используется для производства самых передовых микросхем, в том числе чипов для ускорителей искусственного интеллекта. Оборудование для такой литографии выпускает только нидерландская ASML, а Zeiss — эксклюзивный поставщик оптики для ее EUV-установок. Отсутствие доступа Китая к этой технологии сильно препятствует развитию его полупроводниковой отрасли.

Китай стал второй страной в мире, успешно вернувшей первую ступень ракеты-носителя

США ограничили поставки передового оборудования ASML в Китай, стремясь не допустить появления у страны более мощной технологической базы для производства ИИ-чипов. Пекин в ответ наращивает инвестиции в собственную полупроводниковую промышленность и пытается снизить зависимость от западных поставщиков.

Заявление Zeiss последовало за прогнозом аналитиков UBS, согласно которому возможности Китая в области литографии находятся «на том же уровне, что и у ASML в 2004 году».

Эксперты банка считают, что в ближайшие десять лет жизнеспособная альтернатива EUV-технологии в Китае вряд ли появится. Анализ, основанный в том числе на изучении патентов, показал: хотя китайские компании способны наладить крупносерийное производство иммерсионных DUV-установок (предыдущего поколения технологии) в течение 2-5 лет, EUV-литография пока остаётся для них недостижимой.

В июле издание The Information сообщило, что одна из шанхайских компаний работает над оборудованием для DUV-литографии. Китай уже добился заметного прогресса в этом направлении. Однако, по словам Рохмунда, пока еще предстоит оценить, насколько эффективны эти установки на практике.

Рохмунд также раскритиковал дальнейшее ужесточение экспортных ограничений. «Мы не верим в положительный эффект этих экспортных ограничений, поскольку они ускоряют инновации в Китае», — сказал он. По его мнению, ограничения могут стимулировать страну быстрее развивать собственные технологии.

Zeiss оценивает свою роль в отрасли как критически важную. Компоненты компании используются в 80% производимых в мире микросхем. Чтобы удовлетворить растущий спрос, связанный с развитием искусственного интеллекта, компания расширяет производственные мощности в Германии. Тем временем гонка за собственные технологии производства передовых чипов между Китаем и Западом продолжается.