Стало известно, что на заводе уже проводится тестирование оборудования для EUV-литографии при поддержке голландского производителя ASML. Ограничения TSMC на выпуск 2-нм чипов в США открывают Samsung возможность занять нишу на рынке передовых микросхем, привлекая американских клиентов, включая Tesla и крупные технологические компании.

На то, что завод Samsung в Тейлоре вступил в активную фазу установки оборудования и подготовки к запуску, указывают 183 вакансии для инженеров и техников по литографии, травлению, осаждению, химико-механической полировке, метрологии и работе в чистых помещениях. Компания планирует напрямую нанять 1500 сотрудников, включая местных специалистов. Поставщики оборудования, такие как ASML, Lam Research и KLA, привлекут ещё 1500 инженеров, доведя общую численность персонала на период подготовки до примерно 3000 человек.

Помимо 2-нм технологий, некоторые вакансии завода упоминают работу с узлами от 45 нм до 14 нм, что позволяет предположить участие площадки в поддержке существующих производственных процессов и клиентов, включая предприятие Samsung в Остине.

Первоначальная ежемесячная производительность составит 50 тыс. пластин с использованием архитектуры транзисторов с круговым затвором (GAA). Если испытания пройдут успешно, полномасштабное производство начнётся в 2027 году. Однако запланированный срок установки и проверки оборудования составляет от одного до трёх лет — это более консервативная оценка, чем публично заявленная цель запуска серийного производства.

Проект частично финансируется в рамках «Закона о чипах». Samsung уже получила предварительный грант в размере $6,4 млрд и наняла директора по связям с правительством Техаса для координации льгот, коммунальных услуг, водоснабжения и энергетики — ключевых аспектов работы завода.