DUV-литография считается менее совершенной технологией по сравнению с EUV, однако она может применяться для производства передовых микросхем за счет многократного формирования отдельных слоев. Авторы отчета не утверждают, что все 343 литографа сейчас используются для производства передовых чипов.
Из общего числа установок около 270 относятся к системам ASML TWINSCAN NXT: 1980i, еще 28 — к более современным NXT: 2050i и NXT: 2100i. NXT: 1980i имеют разрешение 38 нм и возможность совмещения слоев с точностью до 2,5 нм — этот параметр важен для многократного нанесения рисунка, которое позволяет использовать DUV-литографию при производстве 7-нм чипов. Сколько установок сейчас находятся в эксплуатации, неизвестно.
Китай активно закупал оборудование для производства чипов на фоне ужесточения американских и европейских экспортных ограничений. В сентябре 2023 года Нидерланды ввели лицензирование экспорта NXT: 2000i и более совершенных иммерсионных DUV-систем в Китай. Несмотря на это, китайские компании продолжили закупать более старые NXT: 1980i: 90 таких установок могли быть поставлены в 2024 году и еще 89 — в 2025-м. По оценке CTS, за два года Китай потратил на них более $13 млрд. В сентябре 2024 года Нидерланды распространили требования о лицензировании и на NXT: 1980i, однако отдельные поставки по-прежнему могут получать разрешение.
Публичные данные ASML подтверждают высокий спрос со стороны Китая: в 2024 году на страну пришлось 41% чистых продаж ASML по стране назначения, а в 2025-м — 33%.
Впоследствии эта доля снизилась до 19% в первом квартале 2026 года и 14% во втором квартале. ASML поставила по всему миру 129 и 131 систему иммерсионной ArFi-литографии (тип DUV-литографии) в 2024 и 2025 годах соответственно. Если оценки CTS верны, Китай получил около 70% и 68% таких машин за эти годы.
В самом оптимистичном теоретическом сценарии CTS продолжение импорта позволило бы к 2035 году нарастить потенциальную мощность производства ИИ-чипов до уровня, эквивалентного 434 млн ускорителей NVIDIA H100 в год. При прекращении импорта с 2027 года этот показатель составил бы 153 млн H100-эквивалентов. Речь не идет о фактическом выпуске такого количества чипов: H100 здесь используется как условная единица для сравнения вычислительной мощности, а расчет предполагает, что остальные производственные ограничения будут устранены.
CTS считает действующие экспортные ограничения недостаточными и предлагает полностью запретить поставки в Китай иммерсионных DUV-систем, а также ограничить обслуживание и замену компонентов уже установленного оборудования на предприятиях, выпускающих передовые чипы. Подобные меры ранее предлагались и в Конгрессе США в рамках законопроекта MATCH Act. По мнению авторов отчета, даже оборудование, изначально закупленное для менее передовых техпроцессов, после модернизации можно использовать для выпуска более современных чипов.

