Стартап выбрал удачный момент для сбора средств: на фоне взрывного спроса на оборудование для ИИ правительства и инвесторы готовы вкладывать значительные средства в полупроводниковые технологии, а отрасль все чаще говорит о приближении физических пределов традиционных методов.
Современные микросхемы изготавливаются методом литографии: свет наносит тончайшие узоры на кремниевую пластину. Оборудование для производства таких микросхем стало основой современной технологии. Lace пытается пойти иным путем. Отказавшись от света, компания решила чертить линии атомами гелия. Теоретически, это позволит уменьшить масштаб современных микросхем в десять раз, пишет Tech Startups.
По словам генерального директора Бодиль Хольст, технология может расширить программу развития полупроводников и сделать возможным то, что в противном случае было бы недостижимо. Научный директор по литографии ведущего исследовательского центра Imec Джон Петерсен назвал потенциальное уменьшение транзисторов на порядок «почти невообразимым» достижением.
Ширина пучка гелия, с которым работает Lace, составляет около 0,1 нанометра. Ширина ультрафиолетового излучения, используемого в самых современных системах литографии, составляет примерно 13,5 нм. Для сравнения, толщина человеческого волоса — около 100 000 нм. Этот разрыв имеет значение. Чем меньшие размеры элементов, тем больше транзисторов на чипе, что приводит к повышению производительности для задач искусственного интеллекта. Если стартап сможет выполнить свои обещания, производители микросхем смогут приблизиться к тому, что Хольст называет «атомарным разрешением».
Lace Lithography, основанный в 2023 году, уже собрал команду из более чем 60 специалистов и создал работающие прототипы. Результаты были представлены на научном саммите по литографии в феврале 2026 года. Среди инвесторов фонд Atomico, Microsoft M12, Linse Capital и другие. Тестовый инструмент на опытном производственном предприятии Lace Lithography планирует запустить к 2029 году.
Как стало известно в декабре, в китайской лаборатории повышенной секретности в Шэньчжэне собран прототип установки для экстремально-ультрафиолетовой (EUV) литографии — технологии, которая сегодня определяет, кто способен выпускать самые передовые процессоры для ИИ, смартфонов и высокоточного вооружения.
