Ещё в апреле 2025 года гендиректор ASML Кристоф Фуке называл разговоры о китайском EUV «несерьёзными», утверждая, что стране потребуется «много-много лет» для полноценной машины, и оговаривался: «всегда возможно сгенерировать немного EUV-света», но это не доказательство «серьёзного продукта». Но Reuters описывает уже не эксперимент «на столе», а демонстратор, занимающий почти весь производственный зал; власти КНР, по данным источников агентства, хотели бы получить работающие чипы к 2028 году, но участники проекта считают более реалистичным рубеж 2030-го.
До сих пор промышленную EUV-литографию в мире поставляет только ASML. Её самые продвинутые системы размером со школьный автобус весят около 180 тонн и стоят порядка $250 млн за единицу. Без них невозможно серийно травить современные топологии на кремнии для тех чипов, которые проектируют Nvidia и AMD, а производят TSMC, Intel и Samsung. При этом поставка передовых литографических машин ASML на рынок жестко контролируется правительствами Нидерландов и США. Их поставка в Китай запрещена.
ASML получила первый рабочий прототип EUV ещё в 2001 году, но до коммерческой отдачи индустрия дошла лишь в 2019-м после многолетних НИОКР, стоивших миллиарды евро.
По данным Reuters, китайская программа стартовала в 2019 году как закрытая государственная инициатива по полупроводниковой «самодостаточности». Публично Пекин много лет говорил о снижении зависимости от западной электроники, но шэньчжэньский EUV-проект велся в режиме секретности и, по версии агентства, вписан в общую технологическую политику, которую китайские СМИ связывали с работой Центральной комиссии по науке и технологиям во главе с приближённым Си Цзиньпина Дин Сюэсяном.
Координационную роль, по словам источников, играет Huawei: компания вовлечена в цепочку «от проектирования и фабричного оборудования до конечной интеграции», а глава Huawei Жэнь Чжэнфэй якобы докладывает высшему руководству о прогрессе.
Техническое «сердце» EUV — источник света лазерно-плазменного типа. В классической схеме лазеры бьют по каплям расплавленного олова примерно 50 000 раз в секунду: образуется плазма сверхвысокой температуры, излучающая EUV-свет, который затем собирается многоступенчатой системой зеркал, работающих в вакууме.
Именно оптика, по словам собеседников Reuters, остаётся главным местом отставания: исследователям трудно воспроизвести точность оптических систем уровня Carl Zeiss — ключевого партнёра ASML.
В проекте задействованы институты Китайской академии наук. Reuters указывает на Чанчуньский институт оптики, точной механики и физики (CIOMP): по словам источника агентства, там добились прорыва в интеграции EUV-излучения в оптическую систему прототипа, что и позволило сделать установку работоспособной в начале 2025 года.
Сам CIOMP, по данным Reuters, в марте публиковал объявление о наборе исследователей с «неограниченными» зарплатами и грантами до 4 млн юаней плюс 1 млн юаней персональных субсидий — редкий для академической среды сигнал об исключительной важности проекта. По версии Reuters, инженеров ASML китайского происхождения вербовали под псевдонимами и выдавали фальшивые удостоверения личности для работы внутри комплекса. Кампания по привлечению специалистов началась в 2019 году.
Рынок на новость отреагировал нервно: на торгах 18 декабря расписки ASML в США снижались примерно на 5–6%. Но в ближайшей перспективе речь, скорее, о стратегической угрозе, чем о немедленном коммерческом ударе. Китай по-прежнему остаётся важным рынком для ASML по «предыдущему поколению» машин: в апреле 2025 года компания отмечала, что доля продаж систем в Китай достигала 27% квартальных поставок, поскольку местные производители ускоряли закупки на фоне риска новых ограничений.
Вопрос теперь в том, сумеет ли Китай превратить «работающий источник света» в производственную экосистему — с оптикой, вакуумом, чистотой процессов, софтом и повторяемостью на уровне серийной фабрики.
Бывший инженер ASML и аналитик SemiAnalysis Джефф Кох в оценке Reuters называет задачу технически осуществимой и сводит её к срокам: если источник света окажется достаточно мощным, надёжным и не будет создавать слишком много загрязнений, «значительный прогресс» неизбежен.
В этой связи прогноз специалистов, что Китай сможет получить первые работающие чипы по самой передовой литографической технологии уже через 5-6 лет, вместо 18 лет, ушедших на ее создание у самой ASML, вполне реалистичен.
